晶圓拋光(polishing)平整度分析

應用:UNEO壓力分佈量測系統可以使用在晶圓拋光製程量測拋頭平整度,用來分析拋頭壓力是否有均勻,並且可以及時軟體畫面顯示壓力平整度,達到線上調機,進而大幅提升晶圓生產良率,減少破片機率,以及減少人力成本效果。