晶圓拋光平整度分析
UNEO壓力分佈量測系統可以使用在晶圓拋光製程量測拋頭平整度，用來分析拋頭壓力是否有均勻，並且可以及時軟體畫面顯示壓力平整度，達到線上調機，進而大幅提升晶圓生產良率，減少破片機率，以及減少人力成本效果。
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