晶圆抛光平整度分析
UNEO压力分布量测系统可以使用在晶圆抛光制程量测抛头平整度，用来分析抛头压力是否有均匀，并且可以及时软件画面显示压力平整度，达到在线调机，进而大幅提升晶圆生产良率，减少破片机率，以及减少人力成本效果。
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